JIS金属表面処理用語
卑金属
標準水素電極と比較して、低い正極電位をもつ金属
対応英語:base metal
規格番号:JIS H 0400 1013
■HOME
■環境規制対応
■営業・技術案内
■業種別加工例
■テクノロジーNow!
■トピックス
■プレス掲載記事
■リクルート
■会社案内
■お問合せフォーム
■リンク
金属表面処理用語検索
防せい防食用語
電気めっき及び関連処理用語
- 一般
- 表面処理
- 化学めっき法
- 化成処理
- 拡散処理
- 溶融めっき法
- 金属被覆
- 電気分解, 電解
- 電解析出, 電析
- 電着
- 電析結晶
- 電気めっき法
- 貴金属
- 卑金属
- 酸化
- 還元
- アニオン,陰イオン
- カチオン
- 電解質
- 電気泳動
- イオン移動, イオン泳動
- 輸率
- 錯塩
- 錯イオン
- 複塩
- 電導度塩
- キレート化合物
- 電極
- 陽極
- 陰極
- 酸化還元電位, 平衡電位
- バイポーラ電極
- 分極
- アノード分極
- カソード分極
- 減極
- アノード反応, 陽極反応
- カソード反応, 陰極反応
- 陽極酸化
- 拡散層
- アノード皮膜
- カソード皮膜
- 電流濃度
- 電流密度
- 臨界電流密度
- 限界電流密度
- 電流効率
- アノード効率, 陽極効率
- カソード効率, 陰極効率
- 過電圧
- 水素過電圧
- 酸素過電圧
- 電流分布
- ハルセル
- 電解液, 電解質溶液
- 陽極液
- 陰極液
- めっき浴
- 素地
- 下地
- 核生成
- 析出電位
- 電気めっき範囲
- 一次電流分布
- 被覆力
- レベリング, 平滑能
- 均一電着性, マクロスローイングパワー
- 微視的均一電着性, ミクロスローイングパワー
- めっき分布, 金属分布比
- 不動態
- 不動態化
- 活性化
- 光沢電気めっき
- 光沢電気めっき範囲
- 光沢浸せき法
- 化学光沢処理
- 水素ぜい性
- 電着応力
- 表面張力
- アニーリング
- pH
- アノード腐食
- カソード防食
- 犠牲防食
- バレル法
- 電鋳法
- 置換反応
- イオン交換
- ウイスカ
- めっきの種類
- めっきの構成
- めっきのタイプ
- めっき有効面
- 使用環境
- 処理剤及び設備器具
- 研磨及び前処理
- めっき処理
- 後処理
- 関連表面処理
- 排水処理
- 試験及び検査
- 表面処理
- 化学めっき法
- 化成処理
- 拡散処理
- 溶融めっき法
- 金属被覆
- 電気分解, 電解
- 電解析出, 電析
- 電着
- 電析結晶
- 電気めっき法
- 貴金属
- 卑金属
- 酸化
- 還元
- アニオン,陰イオン
- カチオン
- 電解質
- 電気泳動
- イオン移動, イオン泳動
- 輸率
- 錯塩
- 錯イオン
- 複塩
- 電導度塩
- キレート化合物
- 電極
- 陽極
- 陰極
- 酸化還元電位, 平衡電位
- バイポーラ電極
- 分極
- アノード分極
- カソード分極
- 減極
- アノード反応, 陽極反応
- カソード反応, 陰極反応
- 陽極酸化
- 拡散層
- アノード皮膜
- カソード皮膜
- 電流濃度
- 電流密度
- 臨界電流密度
- 限界電流密度
- 電流効率
- アノード効率, 陽極効率
- カソード効率, 陰極効率
- 過電圧
- 水素過電圧
- 酸素過電圧
- 電流分布
- ハルセル
- 電解液, 電解質溶液
- 陽極液
- 陰極液
- めっき浴
- 素地
- 下地
- 核生成
- 析出電位
- 電気めっき範囲
- 一次電流分布
- 被覆力
- レベリング, 平滑能
- 均一電着性, マクロスローイングパワー
- 微視的均一電着性, ミクロスローイングパワー
- めっき分布, 金属分布比
- 不動態
- 不動態化
- 活性化
- 光沢電気めっき
- 光沢電気めっき範囲
- 光沢浸せき法
- 化学光沢処理
- 水素ぜい性
- 電着応力
- 表面張力
- アニーリング
- pH
- アノード腐食
- カソード防食
- 犠牲防食
- バレル法
- 電鋳法
- 置換反応
- イオン交換
- ウイスカ
- めっきの種類
- めっきの構成
- めっきのタイプ
- めっき有効面
- 使用環境